2インチから12インチまでの半導体用基板として使用されるシリコンウェーハを、お客様の用途やご要望に応じてご提供いたします。
大手メーカー製の豊富な製品を取り揃え、さまざまなメーカー様や大学、研究機関様の用途や計画に最適なウェーハをご提案いたします。
お客様のご要望に応じた、確かな品質のウェーハを安定して供給いたします。
| 項目 | 単位 | 仕様 | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| サイズ | inch | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 8 | 12 |
| 厚み | μm | 280 ± 25 | 380 ± 25 | 525 ± 25 | 625 ± 25 | 625 ± 25 | 725 ± 25 | 775 ± 25 |
| 製法 | - | CZ/FZ | ||||||
| 結晶方位 | - | <100>/<111>/不問 | ||||||
| タイプ | - | P/N/不問 | ||||||
| 抵抗率 | Ω·cm | 0.01~1,000 | ||||||
| 表面仕上 | - | 両面/片面ミラー | ||||||
| 裏面仕上 | - | 両面/片面ミラー | ||||||
| 梱包形態 | - | コインロール/カセットケース | ||||||
CZ法(チョクラルスキー法)と呼ばれる製造方法を用いて、シリコンウェーハの材料となる単結晶インゴットを製造しています。
このインゴットは、主にデバイス製造工程の一つであるエッチングプロセスに使用される、非常に重要な消耗材料です。
弊社では、お客様のご要望に応じて、さまざまなサイズや抵抗率のシリコンインゴット製品を提供することが可能です。
| 直径(mm) | タイプ | 結晶方位 | 純度 | 抵抗値(Ω·cm) | 長さ |
|---|---|---|---|---|---|
| φ200~φ550 | P | <100>/<111> | 10~11 N | ≤0.01 | オーダーメイド |
| 1~4 | |||||
| 60~90 | |||||
| オーダーメイド |
弊社では、お客様との丁寧なヒアリングを通じて、ニーズに合った最適なウェーハをご提案いたします。また、カセットケース入りやコインロールケース入りなど、ご希望に応じた形態で発送可能です。
さらに、タイプや厚みを問わず、コストを抑えたウェーハの販売にも対応しております。
実験やテストで使用されることが多いため、ダミーウェーハはサイズや厚みが多岐にわたります。また、再生ウェーハを使用する場合もあります。
パーティクル管理が行われたシリコンウェーハ製品に比べ、ダミーウェーハは安価であり、小ロットでの出荷にも対応可能です。これがダミーウェーハの大きな特徴です。
製造装置ではプロセスの安定性を高めるため、最初の数枚にダミーウェーハを投入することがあります。また、製造プロセスの最適化やモニタリングにも使用されます。
ダミーウェーハはデバイス製造には適していませんが、モニタリングやテスト用途としては十分な性能を発揮し、新品ウェーハの代替品として広く利用されています。
ダミーウェーハは、ウェーハ製造の各工程におけるテストや調整で重要な役割を果たす、欠かせない存在です
| 項目 | 仕様 | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| サイズ | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 8 | 12 |
| 製法 | CZ/FZ | ||||||
| タイプ | P型/N型/不問 | ||||||
| 結晶方位 | <100>/<111>/<110>/不問 | ||||||
| ノッチ/オリフラ方位 | <100>/<111>/<211>/不問 | ||||||
| 厚み(μm) | 280 | 380 | 525 | 625 | 625/675 | 725 | 775 |
| 厚み公差(μm) | 20 | 20 | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 |
| 比抵抗(Ω·cm) | 0.005~/不問 | ||||||
| オリフラ | オリフラ | オリフラ | オリフラ | オリフラ | ノッチ/オリフラ | ノッチ/オリフラ | ノッチ |
| 面仕上げ | 片面ミラー(MP/ET)/両面エッチド(ET/ET) | 両面ミラー(MP/MP) | |||||
| パーティクル | 不問 | ||||||
| 数量 | 25枚からご注文承ります。 | ||||||
| 梱包形態 | コインロール/カセットケース | ||||||
| 備考 | 6インチのオリフラ規格は、JEITA,SEMIどちらも対応可能です。 | ||||||